高真空多靶磁控溅射镀膜系统

发布时间: 2026年10月29日
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****2027年1月政府采购意向-高真空多靶磁控溅射镀膜系统 详细情况
高真空多靶磁控溅射镀膜系统
项目所在采购意向: ****2027年1月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 高真空多靶磁控溅射镀膜系统
预算金额: 389.000000万元(人民币)
采购品目:
A****0300电子工业生产设备
采购需求概况 :
支撑生物柔性电子器件、植介入器械关键零部件等的制备、表面改性等加工处理;支撑医疗机器人、脑机接口、植介入医疗器械等智慧医疗主要赛道的高端医疗器械领域重大科研成果的工程化验证、临床适应性改进。
预计采购时间: 2027-01
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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